AÑO 1 NÚMERO 1 / MAYO 2012
Página 1-2
Diseño de Indumentaria: Jimena Saldivar
Cátedra DC: Patricia Doria
Maquillaje y peluquería: Liliana Fretes
PH: Rina Lee
Páginas 3-4
Diseño de Indumentaria: Diego González Pino
Cátedra DC: Federico Laboureau
Maquillaje y peluquería: Esteban Perez
Modelo: Doris Treutel
PH: Cande Rubino
Páginas 5-6
Estilismo y Diseño de Indumentaria: Agostina Piermatei
Cátedra DC: Patricia Doria
Páginas 7-8
Estilismo y Diseño de Indumentaria: Macarena Maite
Cátedra DC: Patricia Doria
Páginas 1-3
Estilismo Estudiantes DC: Flor Caram, Florencia Nieto, Jacqueline Santamaria, Agustina Bevilacqua.
Cátedra DC: Federico Laboureau
Maquillaje y peluquería: Rina Lee y Georgina Rosatto.
Modelo: Rina Lee
PH: Cande Rubino
Páginas 4-6
Estilismo Estudiantes DC: Rina Lee, Flor Caram y Cande Rubino
Cátedra DC: Federico Laboureau
Maquillaje y peluquería: Rina Lee, Flor Caram
Modelos: Rina Lee, Magui Ramirez, Yaz Rodriguez
PH: Cande Rubino
Páginas 1-2
Estilismo Estudiantes DC: Camille Maupas-Oudinot
Cátedra DC:Federico Laboureau
Maquillaje y peluquería: Camille Maupas-Oudinot
Modelo: Agustin Yarde Buller, Pauli Palese y Martin Boerr
PH: Camille Maupas-Oudinot
Páginas 3-5
Estilistas Estudiantes DC: Maricel Fagetti - Rocío García
Cátedra DC:Federico Laboureau
Maquillaje y peluquería: Maricel Fagetti, Rocío García
Modelo: Mica Murua
PH:: Denno Dushs
Páginas 6-7
Nota Editorial: Paula Rey
Páginas 1-4
Estilistas Estudiantes DC: Diego Gonzalez Pino
Cátedra DC: Patricia Doria
Maquillaje y peluquería: Paula Eli
Modelo: Doris Treutel (donnas models)
PH: Rina Lee
Páginas 5-7 Diseñadora DC: Maria Agostina Caruso. Diseño de Indumentaria IV.
Cátedra:Patricia Doria>
Páginas 8 Estilismo Fiamma Foschia y Sara Santamarina para OnSet.
PH Guido Wainstein. Modelo Luz Borchardt. Make up y pelo Florencia Melazza. Agradecimiento especial a Adriana Daireaux y a Tatiana Sokolowski
Federico Laboureau
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A los estudiantes, modelos, fotógrafos, y colaboradores cuyos trabajos se incluyen en la presente publicación digital se solicita sepan disculpar posibles errores u omisiones involuntarias respecto a la autoría, modelaje y colaboración, que pueden haberse deslizado durante el proceso de producción, diagramación y armado.
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